Das Leibniz-Institut für Photonische Technologien e.V. schreibt für die Dünnschichtstrukturierung und -abscheidung eine Ionenstrahlätz- und Beschichtungsanlage aus, welche zum Ätzen und Abscheiden von Dünnschichten auf unterschiedlichen Substraten vom Einzelchipformat bis zum 150 mm Wafer eingesetzt werden soll. Die zentralen Anforderungen an das System sind reproduzierbare Ätzprozesse verschiedener metallischer, halbleitender und isolierender Schichten sowie das Abscheiden metallischer und isolierender Schichten ohne Vakuumunterbrechung (Multilagen). Ein Steuer-PC mit Monitor, Tastatur, Maus, entsprechender Software-Lizenzen und aktuellem Betriebssystem (Win 11) ist mitzuliefern.
Als Budget steht ein maximaler Betrag in Höhe von 1.415.000 Euro brutto zur Verfügung.Es ist bis spätestens 15.12.2025 eine Anzahlungsrechnung in Höhe von 60% des Auftragswertes gegen Bankbürgschaft zu stellen.
s.o.
Als Nachweis zu den bestehenden Erfahrungen sind mind. 2 Referenzen aus den vergangenen 3 Jahren mit dem Angebot einzureichen.
60 % Anzahlung gegen Bankbürgschaft bis 15.12.2025
Bankbürgschaft
- Besondere Vertragsbedingungen für Lieferleistungen des Leibniz-IPHT Jena- Eigenerklärung gem. ThürVgG